日本が技術立国というのはもはや幻想　中韓台に敗れ残された自動車産業も風前の灯火

>投稿者: 質問 (ID:6/oaPQjSz7I)
投稿日時：2025年 08月 07日 17:37
この書き込みは自動車産業さん (ID: D.Vv5ks.tzg) への返信です　

＞メーカー系企業は完全終了なので

あなたに、質問です。
①メーカーの意味は、知ってる？
②東京エレクトロンは、知ってる？
③オランダのASMLは、知ってる？
④JSRは、知ってる？
⑤フォトレジストって、知ってる？　
あなたの投稿内容より、全部知らない可能性を考えての質問です。


自動車産業さん (ID: D.Vv5ks.tzg) さんからは、結局回答がありませんでしたが〜
『「メーカーはオワコン」というイメージの背景には、メーカーの仕事内容(BtoB)や価値が、文系者にとって見えづらくなっている現状があるからでは？』と考えての質問です。

お題 (ID:ydqgi1cyE6s)さんなら、この質問に答えられますか？

お題 (ID:ydqgi1cyE6s)さん宛の質問が、削除されていますね。

いつもの如く、都合が悪かった模様。

②東京エレクトロン
日本を代表する半導体製造装置メーカーで、世界的にもトップクラスのシェアを誇る。
主に半導体やフラットパネルディスプレイの製造工程で使われる装置を開発・製造しており、特に「コータ・デベロッパ装置」（フォトレジストの塗布・現像装置）やエッチング装置、洗浄装置などの評価が高い。

③ASML
最先端半導体の回路を描くために不可欠な世界で唯一EUV（極端紫外線）露光装置を量産できる企業で、世界シェアは100%

④JSR
フォトレジストの高い純度や感度、解像度の高さから、先端半導体メーカーからの信頼が厚い。
世界シェアのトップを占める企業として、グローバルな半導体産業の1つ

⑤フォトレジスト
半導体製造のリソグラフィ工程で使われる感光性の化学材料。
シリコンウエハーの表面に薄く塗布され、紫外線や極端紫外線（EUV）などの光を当てることで化学反応を起こす。露光された部分の性質が変わり、現像液で洗い流せるか残るかが決まるため、微細な回路パターンをウエハー上に転写する役割を果たす。

日本のフォトレジストが選ばれる理由は、単に材料の純度や感度の高さだけにとどまりません。

背後には、東京エレクトロンなどのコータ・デベロッパ装置や、ASMLの最先端露光装置との高度な適合性があります。フォトレジストは露光時の化学反応特性が極めて重要であり、装置メーカーと緊密に連携して細部まで調整することで初めて最大の性能を発揮します。
（つまりフォトレジストは、露光のときに起こる化学反応がとても大事で、装置メーカーと一緒に細かく調整することで、はじめて力を最大限に発揮する）

JSRは世界有数のフォトレジストメーカーとして、装置メーカーと密接に協力し、高感度かつ高解像度のレジストを開発。東京エレクトロンのコータ・デベロッパ装置と精密に連動させることで、塗布から現像まで安定した性能を実現しています。さらに、ASMLのEUV露光装置に対応するため、早期から共同評価を重ね、微細パターン形成に不可欠な化学特性を徹底的に追求してきました。

こうした装置との“二重適合”、すなわち緻密な「擦り合わせ」による協業体制こそが、日本のフォトレジストが世界の最先端半導体製造を支える不可欠な存在である所以です。その結果、日本製フォトレジストはEUV用で世界シェア約80％を維持し、高い信頼を得続けています。

先の投稿で「フォトレジストなど一部の話は意味がない」との意見がありましたが、それは日本の化学産業と半導体装置メーカーの役割を過小評価しています。

日本の化学産業は極めて高度な化学技術を背景に、半導体装置メーカーと緻密な「擦り合わせ」を繰り返しながら製品を完成させています。　
この協業体制こそが世界トップクラスの製造技術を支えており、その合計利益は自動車メーカーの利益と匹敵するほどの規模に達しています。

技術立国の看板は簡単に捨てられるものではなく、特に材料や装置の分野で日本の強みは揺るぎません。

「日本は技術立国の幻想」「自動車産業は終わり」などの短絡的な主張は、現状の産業構造や実績を無視した暴論にほかなりません。

こうした見方は、多くの場合、産業構造を正しく理解していない文系の方々によるものであり、理科や技術の知識を軽視した結果、想像力が欠如していることに起因しています。

そのため、日本のメーカーがオワコンだと決めつけてしまうのです。

確かに自動車産業は変革期にありますが、それをもってすべての技術産業が終わるわけではありません。半導体材料や製造装置といった産業の中核技術分野で、日本は競争力を維持・強化し続けていますし、理系を軽視する論調は将来を見誤っており、これらの分野の技術力こそが日本の産業競争力の根幹です。

AIプラットフォーム(LLM開発)は、DeepSeekの出現により第2期AIデジタル時代に移りつつあります。

現在のAI（LLM)は、いわゆる「3ヶ月ルール」により、OpenAIなどが先行しても、中国企業はそれを基に上流工程を再構築・最適化し、3ヶ月程度で追いついてくる。

これにより、プラットフォームそのものの開発競争は形骸化し、優位性が薄れてきています。
現在のAIの競争は、プラットフォームそのものではなく、その次の段階で『ものづくり』や『アプリケーション』等が意味を成す時代に移りつつあります。

文系の人には、まだ想像が出来ない世界なのかもしれませんが…

今こそ理系人材の重要性を再認識し、技術革新に全力を注ぐべき時代だと感じますが。

因みに、

JSRはもともと上場企業として、2010年代初頭からASMLと協力し、EUV露光装置対応の高性能フォトレジスト開発を進めてきました。この技術連携は、日本の半導体材料産業の競争力維持に不可欠です。

2024年4月に、TOBが成立し産業革新投資機構（ＪＩＣ）傘下に入り非上場化しましたが、この非上場化は、短期的な市場の圧力から解放され、長期的かつ安定した技術開発と経営戦略に専念するための重要な措置です。国家戦略としての半導体強化を支えるため、経営の安定化と機密情報の厳重な保護が不可欠であり、非上場化によりこれらが実現されました。これによって、短期的な株主の利益追求に左右されることなく、持続的な技術革新と高度な機密管理が可能となったのです。

この動きは単なる企業戦略を超え、日本の半導体材料技術を世界最先端に維持し続けるための国策の一環であり、国家の未来を左右する重要な投資です。
JSRの高機能材料開発は、ASMLとの連携を通じて日本の半導体製造装置分野の強靭な基盤を支えており、政府の本気度と技術の重要性を象徴しています。